宿迁uv光催化-uv光催化仪器-诺净源(商家)

uv废气处理是通过紫外线光照技术将废气中的氧气分解为臭氧，利用臭氧与废气进行反应，将气体物质进行降解，再利用高能的uv光束裂解---的分子间，uv光催化，达到杀菌的目的。还降解技术成本低廉，运行稳定---，uv光催化仪器，无需专人看护，但在废气处理的速度上较慢，相比低温等离子技术效率偏低。

　　低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态，当外加电压达到气体的放电电压时，宿迁uv光催化，气体被迅速击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度---，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体。 低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。(注：低温等离子体相对于高温等离子体而言，属于常温运行。) 等离子体反应区富含---的物质，如高能电子、离子、自由基和激发态分子等，废气中的污染物质可与这些具有较高能量的物质发生反应，使污染物质在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到讲解污染物的目的。与传统的电晕放电形式产生的低温等离子技术相比较，等离子体技术放电密度是电晕放电的1500倍，这就是传统低温等离子体技术治理工业废气99%以失败而告终的原因。